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核断熱消磁冷凍機
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世界有数の性能とコンパクトさをもつ核断熱消磁冷凍機。主に2次元He系の比熱およびNMR測定に使用中。

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核断熱消磁冷凍機

 最低温度:51 μK
 保持時間:2 weeks (≦ 200 μK)
希釈冷凍機部
 無負荷時最低温度:8 mK
 冷却力:400 μW @ 100 mK
超伝導マグネット部
 最大磁場:9 T


比熱測定用試料セル

 0.1 ≦ T ≦ 80 mK
 印加磁場:≦ 1.3 T

NMR測定用試料セル
 60 μK ≦ T ≦ 1.5 K
 印加磁場:≦ 0.2 T

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無冷媒希釈冷凍機
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液体ヘリウム浴槽を使用せず、パルス管冷凍機で運転するプレクーリングステージをもつ新型の希釈冷凍機。
低温真空槽がないので、実験空間が広く、室温からの光学的・機械的アクセスが容易。ボタンを押すだけで1日半後に12 mKの極低温度が実現。量子液体・固体、電子物性など広い用途に使用中。

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Oxford Instruments社製 DR200型
 最低温度:12 mK
 冷却力:200 μW @ 100 mK
 冷却時間:35 h(室温から最低温度まで)
 全自動運転
 

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超低温・走査トンネル顕微鏡(ULT-STM)
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希釈冷凍機温度で作動し、試料表面を処理・評価できる超高真空チャンバーを有する世界で唯一のSTM装置。
主にグラフェン、異方的超伝導、超薄膜超伝導の走査トンネル分光(STS)測定に使用中。

ULT_STM01_t ULT_STM02_t  

ULT-STM
 動作温度:30 mK ≦ T ≦ 300 K
 最大磁場:13 T
 超高真空環境:≦ 1 × 10-8 Pa

試料処理・評価部
 アルゴンイオンスパッタ
 加熱:1500 ℃(抵抗加熱)
 加熱:0800 ℃(間接加熱)
 電子ビーム蒸着装置
 低速電子線回折装置(LEED)
 低温劈開機構



 

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複合走査プローブ(ULT-STM/AFM/TR)
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ULT_SAT01_t ULT_SAT02_t  

超低温複合走査プローブ

 同一試料に対して
 ・走査トンネル顕微鏡(STM)
 ・原子間力顕微鏡(AFM)
 ・電子輸送特性(TR)
 の3種類の計測を行うことができる
 最新鋭の複合走査プローブの心臓部。
 ULT-STMに組み込み予定。


室温大気中STM装置
 第一世代のULT-STMに使われていた
 STMヘッド。現在は室温大気中での
 予備実験に使用。
 

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表面微細加工装置
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マスクアライナー

 ミカサ社製MA-20型
 (フォトリソグラフィー用)

デジタル光学顕微鏡
 キーエンス社製 VN-2450型
 (3000倍)。右隣はニコン社製
 実体顕微鏡

スピンコーター
 ミカサ社製MS-A100型
     
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簡易クリーンブース
   

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製膜装置
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evapolator01_t evapolator02_t  

超高真空蒸着装置
 真空度:≦ 1 × 10-6 Pa
 電子ビーム蒸着源 × 2
 抵抗加熱蒸着源 × 2

3ゾーン電気炉
 真空度:≦ 1 × 10-4 Pa
 最高温度:1500℃
 均熱帯長さ:40 cm
 

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